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Wysłany: Czw 11:33, 31 Mar 2011 |
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生物荧光激发滤光片及栅滤光片的研制
一mI)/(T2一T1)=(2一,)/(T2一T3).上式整理后可得:lm2(T3一T1)+ml(T2一T3)lm3I一――__■――1m3即是镀制0.75L所走的格值数.实践证明,按(9)式计算的格值来监控1.75L是正确的.在准确监控1.75L层的基础上,对金属Ag屡的监控是十分重要的.因为它将直接影响到通带的峰值透过率和截止区的截止深度,按论计算,Ag层的正确厚度是60nm,为了较准确监控该厚度.将制备双半渡滤光片透射光监控的指针变化规律运用到Ag层厚度的监控.此规律是:镀完第一个1.75L间隔层后,紧接着蒸镀银层,随着银层厚度的增加,福建师范大学学报(自然科学版)1995年12月透过率开始略有下降,再逐渐增大到极值。然后又单调下降,当透过率降至比起始值略低时,A层厚度接近正确值.实践证明,采用这种方法来监控Ag层的厚度既方便又可靠.但有一必备的条件是第一个1.75L监控要十分准确,否则,Ag层蒸镀时指针格值的就不会按上面规律变化.第二个1.75L间隔层的监控比较简单,由于Ag层的反射相移已包含在间隔层的厚度变化中,所以只要监控表头走二个极值.这时实际的碍度即为1.75L.3.3制备工艺的要求(1)基片温度的控制:除银层之外.其它各层蒸镀时基片温度应达到200"C,这样方可保证ZrO2:Ta2O5混合料的折射率达到2.1.蒸镀银层时,为了减少吸收。不对基片进行烘烤,采用冷基底.(2)蒸发速率的控制:对高折射率材料zro2:Ta2混合料,蒸发速率的控制将直接影响到折射率的大小,通过多次实践.反复比较,认为对于高折射率层的蒸发速率应为10~l5A5-。,而低折射率层蒸发速率应为9~lOOAs-。.而对于银层则要求材料要彻底预熔,快速蒸发,60nm的Ag层蒸发时间应控制在7~lOs之间,快速蒸镀A-g层,使其结构十分致密,吸收小反射率高.(3)对材料的处理:对高折射率材料ZrOz:Ta205,蒸镀之前需进行热处理,将材料放在茂福炉中用500'C~600"C高温烘烤_4~8h.这处理的好处在于:一是在蒸发过程中放气少,可以保证维持所需要的真空度;二是使材料的折射率比较稳定.
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